实质上发光光源和反射镜加起来才是。euv光刻机的光源。asml的euv光源,使用的是:DPPEUV光源,利用的是放电形成等离子体,然后辐射出紫外线,取石的紫外线除了euv,含掺杂的有其他波长的光。
光刻机中所使用的反射镜,实际上是镀膜反射镜,在反射时会对光谱进行筛选,多次反射可以更好的净化光谱,得到复合要求的euv。
实质上发光光源和反射镜加起来才是。euv光刻机的光源。asml的euv光源,使用的是:DPPEUV光源,利用的是放电形成等离子体,然后辐射出紫外线,取石的紫外线除了euv,含掺杂的有其他波长的光。
光刻机中所使用的反射镜,实际上是镀膜反射镜,在反射时会对光谱进行筛选,多次反射可以更好的净化光谱,得到复合要求的euv。