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光刻机为什么不能逆向工程？
光刻机之所以不能逆向工程，主要是出于技术保护和商业机密的考虑。逆向工程是指通过对产品进行逆向分析和研究，以获取产品的设计、制造和工艺等方面的信息。然而，光刻机作为一种高精密、高技术含量的设备，其核心技术和工艺是光刻机制造商的核心竞争力和商业机密。光刻机的工作原理和关键技术涉及到光学、光源、控制系统等多个领域，其中包含了大量的专利技术和商业秘密。如果允许逆向工程，就有可能导致这些核心技术和商业机密被他人获取，从而损害了光刻机制造商的利益和竞争优势。此外，光刻机的制造和维护需要高昂的成本和专业技术支持。制造商通常会对其设备进行严格的控制和管理，以确保产品的质量和性能。如果允许逆向工程，可能会导致未经授权的修改或复制，从而影响到设备的正常运行和维护。因此，为了保护技术和商业利益，光刻机制造商通常会采取各种措施来防止逆向工程，包括加密技术、法律保护和严格的供应链管理等。这样可以确保光刻机的核心技术和商业机密不被泄露，同时也促进了行业的健康发展和竞争力的提升。
专利申请是否可以按商业秘密评估？
可以
(1)专利申请前，应对技术方案授权可能性评估，若被授予专利可能性过低，则以商业秘密保护。
(2)通过技术保密可以获得长期的、无国界的市场独占地位，且技术方案不易被他人反向工程，则应以商业秘密保护。
(3)如果要求技术方案保护期限比专利保护期长（发明专利20年；实用新型专利10年），且能为公司带来巨大价值，则以商业秘密保护。
(4)专利申请前，考虑对技术方案部分环节以商业秘密形式保护，对另一部分申请专利。即使商业秘密被泄露，他人也无法生产出完整产品，以此为核心技术设立双重防线。
(5)技术方案市场周期短，而申请专利审查周期较长，若专利授权时该技术成果可能有更先进的替代技术出现，则不宜申请专利。
(6)提交专利申请容易向竞争对手暴露公司技术研发动态，且专利保护范围容易被对手规避，则不宜申请专利。
(7)若专利申请方案公开后，对潜在竞争对手进行技术开发有帮助，此时应以商业秘密保护。
(8)有些技术方案一点即透，特别是对研发相关产品的竞争对手而言。如果竞争对手技术研发已经趋于成熟，具有很强的独立研发能力，建议申请专利，以公开换保护。
(9)如果技术方案比较复杂，实际实施中每位员工也仅能接触到技术方案的部分内容，则考虑商业秘密保护；反之，因当前员工流动性较强，若员工容易掌握全部技术方案，则建议提交专利申请。
(10)产品方法专利分为两类，其一为新产品方法专利，其二为老产品方法专利。后者维权原告举证责任大，故建议前者提交专利申请，后者进行商业秘密保护。延伸开来说，对于原告维权举证责任较重的技术方案，建议进行商业秘密保护。
(11)公司技术方案运营方式，若主要是对外许可，考虑到被许可方泄密的风险，建议提交专利申请；当技术方案比较复杂时，建议对于实现完整功能效果的全部技术方案，部分申请专利，部分进行商业秘密保护。
(12)基于成本角度考虑，对于经济价值大、投资回报率高的技术选择以专利方式保护；对于经济价值较小的技术则选择以商业秘密方式加以保护，以免投资大于回报。
什么是逆向研发？
逆向研发即逆向工程，是一种产品设计技术再现过程，即对一项目标产品进行逆向分析及研究，从而演绎并得出该产品的处理流程、组织结构、功能特性及技术规格等设计要素，以制作出功能相近，但又不完全一样的产品。
逆向工程源于商业及军事领域中的硬件分析。其主要目的是在不能轻易获得必要的生产信息的情况下，直接从成品分析，推导出产品的设计原理。
什么是逆向工艺？
逆向工艺（又称逆向技术），是一种产品设计技术再现过程，即对一项目标产品进行逆向分析及研究，从而演绎并得出该产品的处理流程、组织结构、功能特性及技术规格等设计要素，以制作出功能相近，但又不完全一样的产品。逆向工程源于商业及军事领域中的硬件分析。其主要目的是在不能轻易获得必要的生产信息的情况下，直接从成品分析，推导出产品的设计原理。
逆向工艺可能会被误认为是对知识产权的严重侵害，但是在实际应用上，反而可能会保护知识产权所有者。例如在集成电路领域，如果怀疑某公司侵犯知识产权，可以用逆向工程技术来寻找证据。
